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半導體領域用光學薄膜測量儀測厚儀

產品名稱: 半導體領域用光學薄膜測量儀測厚儀
產品型號: FE-300
產品特點: 半導體領域用光學薄膜測量儀測厚儀
產品信息 特 長 薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析 高性能的低價光學薄膜量測儀 藉由絕對反射率光譜分析膜厚 完整繼承FE-3000機種90%的強大功能 無復雜設定,操作簡單,短時...

半導體領域用光學薄膜測量儀測厚儀 的詳細介紹


半導體領域用光學薄膜測量儀測厚儀
半導體領域用光學薄膜測量儀測厚儀
產品信息 特 長 薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析 高性能的低價光學薄膜量測儀 藉由絕對反射率光譜分析膜厚 完整繼承FE-3000機種90%的強大功能 無復雜設定,操作簡單,短時...

● 支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

● 使用反射光譜分析薄膜厚度

● 實現非接觸、非破壞的高精度測量,同時體積小、價格低

● 簡單的條件設置和測量操作!任何人都可以輕松測量薄膜厚度

● 通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等,可以進行多種膜厚測量。

● 非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學常數分析(n:折射率,k:消光計數)。

● 支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

● 使用反射光譜分析薄膜厚度

● 實現非接觸、非破壞的高精度測量,同時體積小、價格低

● 簡單的條件設置和測量操作!任何人都可以輕松測量薄膜厚度

● 通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等,可以進行多種膜厚測量。

● 非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學常數分析(n:折射率,k:消光計數)。

● 支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

● 使用反射光譜分析薄膜厚度

● 實現非接觸、非破壞的高精度測量,同時體積小、價格低

● 簡單的條件設置和測量操作!任何人都可以輕松測量薄膜厚度

● 通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等,可以進行多種膜厚測量。

● 非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學常數分析(n:折射率,k:消光計數)。

● 支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

● 使用反射光譜分析薄膜厚度

● 實現非接觸、非破壞的高精度測量,同時體積小、價格低

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● 通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等,可以進行多種膜厚測量。

● 非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學常數分析(n:折射率,k:消光計數)。

● 支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

● 使用反射光譜分析薄膜厚度

● 實現非接觸、非破壞的高精度測量,同時體積小、價格低

● 簡單的條件設置和測量操作!任何人都可以輕松測量薄膜厚度

● 通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等,可以進行多種膜厚測量。

● 非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學常數分析(n:折射率,k:消光計數)。




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