1250-1300℃致密化燒結(jié)高純氧化鋁粉

1250-1300℃致密化燒結(jié)高純氧化鋁粉

• 超高純度：所有型號(hào)的氧化鋁含量均≥99.99%，部分型號(hào)如TM-DAR純度可達(dá)99.995%以上。關(guān)鍵雜質(zhì)如Si、Fe、Na等含量被嚴(yán)格控制在低水平，例如TM-DAR型號(hào)中Si<10ppm、Fe<8ppm、Na<8ppm

  。
• 低放射性雜質(zhì)：鈾(U)和釷(Th)含量分別低于0.004ppm和0.005ppm

  ，這使得材料在核醫(yī)學(xué)和半導(dǎo)體等對(duì)純度要求的領(lǐng)域具有重要應(yīng)用價(jià)值

  。

粒徑分布

• 超微細(xì)粒徑：一次粒子徑可達(dá)0.10μm，部分型號(hào)如TM-5D粒徑為0.20μm

  。粒徑分布可控且均勻，BET比表面積從9.0m2/g到17.0m2/g不等。
• 顆粒形貌優(yōu)化：顆粒形狀均勻，減少了燒結(jié)過程中氣孔的形成，使燒結(jié)體透光率顯著提高

  。

低溫?zé)Y(jié)特性

• 低溫?zé)Y(jié)：TM-D系列可在1250-1300℃實(shí)現(xiàn)致密化燒結(jié)，燒結(jié)密度可達(dá)理論密度的98%以上。TM-UF型號(hào)的燒結(jié)溫度更低，可在1200°C至1250°C的溫度范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)致密化

  。
• 節(jié)能與性能優(yōu)勢(shì)：相比傳統(tǒng)氧化鋁的高燒結(jié)溫度（通常>1600℃），大明化學(xué)的氧化鋁粉體燒結(jié)溫度大幅降低，能耗減少30%-40%

  。此外，低溫?zé)Y(jié)還能減少晶粒異常生長(zhǎng)，提高燒結(jié)體的致密程度

  。

優(yōu)異的成型性能

• 表面修飾技術(shù)：通過表面修飾技術(shù)防止顆粒團(tuán)聚，振實(shí)密度最高可達(dá)1.0g/cm3（TM-DAR/TM-DR），注射成型時(shí)填充率提升15%以上

  。
• 高成形密度：成形密度可達(dá)2.3g/cm3（單軸壓制98MPa），減少燒結(jié)收縮率

  。

優(yōu)良的燒結(jié)體性能

• 高強(qiáng)度和高硬度：燒結(jié)體具有高強(qiáng)度、高硬度、耐磨性及耐腐蝕性，適用于制造各種精密陶瓷部件

  。
• 光學(xué)性能：通過HIP（熱等靜壓）燒結(jié)后，TM-DA/TM-DAR可制備透光率>85%@600nm的透明陶瓷，用于高壓鈉燈電弧管、激光窗口等光學(xué)器件

  。

廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域

• 精密陶瓷：適用于制造切削工具、等

  。
• 電子材料：用于IC基板、傳感器等電子元件

  。
• 光學(xué)材料：可用于制造透明陶瓷、紅寶石、YAG激光晶體等。
• 其他材料：還適用于研磨材料、合成尖晶石、催化劑載體等

  。